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刻蝕設(shè)備

鍍膜設(shè)備

核心組件

技術(shù)支持

PEALD設(shè)備

發(fā)布日期:2023/10/11 0:00:00
1.成膜均勻性小于1%;
2. LOADLOCK 樣品傳輸系統(tǒng);
3.獨(dú)特的進(jìn)氣設(shè)計(jì),快速閥門相應(yīng)(<10ms),精確控制每個(gè)循環(huán)中的進(jìn)源量,有效避免反應(yīng)源的損失;
4.反應(yīng)Gas line采用全包裹加熱式,對(duì)氣線進(jìn)行差異式控溫方式進(jìn)行加熱,管路加熱均勻;
5. ICP 遠(yuǎn)程感應(yīng)耦合等離子體系統(tǒng);
6.原裝進(jìn)口 1000W 射頻電源;
7.高性能真空系統(tǒng)(含進(jìn)口干泵+分子泵)。

0513-59999369